Moins de 1 nm : Une nouvelle technologie permet de fabriquer des puces minuscules

Afin de contourner les limites techniques du processus de lithographie, le défaut d’une structure cristalline est utilisé comme porte. Les chercheurs ont trouvé ce qu’ils cherchaient entre des structures en miroir de cristaux bidimensionnels de disulfure de molybdène.

C’est précisément là que se crée un espace unidimensionnel de seulement 0,4 nanomètre, soit 400 picomètres ou à peine plus de trois atomes de silicium. En construisant une telle structure molécule par molécule, il a été possible de la rendre presque dix fois plus petite que ce qui était possible auparavant.

Sur la base de cette taille, un transistor d’une longueur de 3,9 nanomètres a pu être construit, bien qu’il ne s’agisse pour l’instant que d’une théorie. Cela correspond à un sixième du processus de fabrication de 3 nanomètres, ou à un trentième de la surface.

En fonction de la date à laquelle une mise en œuvre technique pourra être réalisée, le calendrier de développement des puces pourrait bénéficier d’un sérieux coup d’accélérateur. Alors que la résolution de 2 nanomètres devrait être atteinte en 2025, il a été supposé qu’une résolution de 0,5 nanomètre ne pourrait être atteinte qu’en 2037.

La loi de Moore pourrait donc continuer à s’appliquer pendant un certain temps encore.